国产HFE-347 HFE-449 HFE-458氢氟醚电子氟化液半导体硅片清洗

性能特点

1. 安全不燃：无闪点，无需防爆车间改造，低气味，提升产线 EHS 安全等级。
2. 超低表面张力：16.4mN/m，可渗入微小缝隙、盲孔，高效剥离微颗粒、粉尘，适合光学镀膜件。
3. 基材友好：对各类光学镀膜、塑料、橡胶、PCB、金属稳定，不易腐蚀、溶胀、发白。
4. 快干低残留：沸点适中，清洗后自然风干，不易产生水印斑点，免烘干。
5. 环保可回收：ODP=0，不破坏臭氧层；支持蒸馏循环再生，危废减量，适配出口合规。

应用领域

• 光学光电：镜头、滤光片、光学镀膜组件、LED 器件除尘、除指纹、脱模剂
• 电子行业：连接器、继电器、半导体、PCBA 元器件轻质油污与颗粒清洗
• 新能源：锂电、储能精密端子、绝缘件清洗，绝缘载液
• 精密加工：轴承、微型阀件、航空精密零部件脱脂
• 水切干燥：替代 IPA 做工件脱水干燥

理化指标

• 产品名称：HFE-347 氢氟醚清洗剂
• 沸点：56.2℃
• KB 值：13
• 外观：无色透明液体
• 闪点：无（不可燃）
• ODP：0，GWP：540
• 表面张力：16.4mN/m
• 适用工艺：气相清洗、超声波、手工擦拭、脱水干燥